Plasma Technology – What is Plasma? 什麼是電漿？

Plasma refers to ‘ionized gas.’ When high energy is applied to the gas atoms or molecules, the electrons get knocked off the particles, ionizing the gas. As a result, the particles are divided into positive and negative ions, radicals, and photons – forming plasma 

電漿（Plasma）是指「離子化的氣體（Ionized Gas）」。當高能量施加於氣體的原子或分子時，電子會從粒子中分離，使氣體產生離子化。其結果會形成正離子、負離子、自由基（Radical）及光子（Photon）等粒子，進而形成電漿狀態。

 The plasma shows apparent neutrality due to the same number of positively and negatively charged particles (Quasi-Neutral). Since plasma possesses free moving electrons and charged particles, it is highly responsive to electric and magnetic fields (Collective Behavior). 

由於電漿中的正電與負電粒子在整體上維持平衡，因此表現出近似電中性的特性，此現象稱為 準中性（Quasi-Neutrality）。此外，由於電漿中存在可自由移動的電子與帶電粒子，因此對電場與磁場具有高度反應性，此特性稱為 集體行為（Collective Behavior）。

 Nowadays, plasma plays an essential role in many industrial fields. In semi-conductor manufacturing, more than 70% of the process uses plasma. By using the chemical and physical properties of plasma, we can change the surface properties of materials. It is a future-oriented technology with new applications continually being developed.

現今，電漿技術在許多工業領域中扮演著重要角色。尤其在半導體製造過程中，許多關鍵製程皆廣泛應用電漿技術。透過電漿的化學與物理特性，可對材料表面進行處理，改變其表面特性或賦予新的功能。

電漿技術目前廣泛應用於半導體、顯示器、電子元件、材料及表面處理等領域，並持續發展新的應用，是一項具有高度發展潛力的未來關鍵技術。